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相反，由于氢氧根离子(OH-)的存在而产生碱性。随着 OH-离子浓度的增加，溶液呈碱性，pH 值接近 14。确定特定零件清洗应用的最佳pH 值需要彻底了解所涉及的材料和所需的清洗效果。例如，清洁铝部件需要更中性的 pH 范围，因为过...

碱性蚀刻和酸性蚀刻的区别,氨水,金属,氯化铵,成分为,碱性蚀刻,酸性蚀刻

用水泥作为粘结材料安装石材，长期接触水，潮湿的前提下，氢氧化钠、氢氧化钙，碱性材料如水泥、溶解在水中，浸入微孔、微裂缝结构周围的石材，在毛细作用和水的蒸腾能力下，被送往石材表面，进而沉淀。当这些碱性物质沉淀出...

半导体加工中反复氧化-HF蚀刻-碱性化学清洗工艺对硅表面的影响,半导体,氧化,基板,氧化膜

文章：硅的碱性蚀刻 编号：JFKJ-21-1653 作者：华林科纳引言本文介绍了用于微型量子频标的MEMS碱蒸气室技术开发的实验结果。包含光学室、浅过滤通道和用于固态碱源的技术容器的两室硅电池的经典设计在湿法各向异性硅蚀刻的单...

一、含铜蚀刻液来源印刷线路板的需求量呈几何式增长，含铜蚀刻液因其具有蚀刻速度快、效率高、蚀刻效果可控等优势，被广泛应用于PCB的制造工艺中，因此在PCB的生产中会产生大量的蚀刻废液。二、含铜蚀刻废液处理方法常见的...

与碱蚀不同，CACE各向异性因子的值几乎相同，与硅面和面的自由键密度之比相同。与碱性溶液几乎为零的蚀刻速率相比，铜基酸性溶液在硅平面上实现了更快的蚀刻速率(0.54微米/分钟)。此外，在硅表面制备的薄膜具有优越的结构特性...

文章：GaAs在酸性和碱性溶液中的湿蚀刻编号：JFKJ-21-848 作者：华林科纳摘要本文用同步光电发射光谱法研究了无氧化物砷化镓表面与酸性(盐酸+2-丙醇)和碱性(氨水）溶液的相互作用。结果表明，两种溶液主要处理表面镓原子，...

近日，浙江温州市生态环境局苍南分局联合公安机关成功破获一起蚀刻废水污染案件，涉案加工点因以私设暗管逃避监管...清洗槽内残留有清洗废水，现场用试纸比对清洗槽内部分残留废水呈酸性pH值约为3，部分残液呈强碱性pH值约为11。...

有证据表明，晶体硅上的碱性Ni/P镀层对基体有破坏作用，并高度依赖于镀覆工艺参数，可以在35–45°C的温度下进行电镀，而不会明显损坏硅材料，在65–75°C的较高温度下进行处理会导致不明显的硅材料蚀刻，其厚度可达80纳米以上...